空热处理设备应用越来越广泛，一般都需要外购温控表控制温度。本文设计了PLC 温控系统，在设备自带PLC中利用PID模块设计控温系统，无需外购温控表，大大减少设备成本并降低故障发生。同时，把温控程序与真空设备原有程序放在一个软件系统里编程，可减少通讯线路，系统运行稳定，反应迅速。
1、真空热处理技术
真空热处理是真空技术与热处理技术相结合的新型热处理技术，真空热处理所处的真空环境指的是低于一个大气压的气氛环境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空热处理实际也属于气氛控制热处理。真空热处理是指热处理工艺的全部和部分在真空状态下进行的，真空热处理可以实现几乎所有的常规热处理所能涉及的热处理工艺，但热处理质量大大提高。与常规热处理相比，真空热处理的同时，可实现无氧化、无脱碳、无渗碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脱脂除气等作用，从而达到表面光亮净化的效果。
1.1、真空冶金
在低于标准大气压条件下进行的冶金作业。可以实现大气中无法进行的冶金过程，能防止金属氧化，分离沸点不同的物质，除去金属中的气体或杂质，增强金属中碳的脱氧能力，提高金属和合金的质最。真空冶金一般用于金属的熔炼、精炼、浇铸和热处理等，随着尖端科学技术的迅速发展，真空冶金在稀有金属、钢和特种合金的冶炼方面日益广泛地得到应用。
1.2、温度控制
温度控制已成为工业生产、科研活动中很重要的一个环节，能否成功地将温度控制在所需的范围内，关系到整个活动的成败。由于控制对象的多样性和复杂性，导致采用的温控手段的多样性。在真空热处理设备的温度控制系统中，首先将需要控制的被测参数温度，由传感器转换成一定的信号后，再与预先设定的值进行比较，把比较得到的差值信号，经过一定规律的计算后，得到相应的控制值，此时将控制量送给控制系统进行相应的控制，而且不停地进行上述工作，从而达到自动调节的目的。
1.3、PID 控制原理
在过程控制中，按偏差的比例(P)、积分(I)和微分(D)进行控制的PID 控制器(亦称PID 调节器)是应用最为广泛的一种自动控制器。它具有原理简单，易于实现，适用面广，控制参数相互独立，参数的选定比较简单等优点；而且在理论上可以证明，对于过程控制的典型对象———“一阶滞后+ 纯滞后”与“二阶滞后+ 纯滞后”的控制对象，PID 控制器是一种最优控制。PID 调节规律是连续系统动态品质校正的一种有效方法，它的参数整定方式简便，结构改变灵活。
2、硬件设计
CPU 采用西门子S7-300 系列314C-2 型PLC ，该PLC 具有以太网和D P 通讯、模拟量输入输出功能等，可满足常规热处理设备要求。
另外热电偶温度变送可测量实际温度值。人机界面采用TP1900 精致面板，与300 系列PLC 兼容性较好，连接比较方便。
